Установки роста кристаллов методом Киропулоса
Установка "Омега" для получения монокристаллов методом Киропулоса. Отличительная особенность данного оборудования это воможность оплучения высококачественной монокристаллической продукции в виде буль. В отличии от других методов, позволяет получать изделия оптического и оптоэлектронного качества. Основное применение - получение монокристаллов сапфира для LED индустрии.
Особенности:
- Закрытая система водяного охлаждения с датчиками контроля расхода и температуры охлаждающей воды
- Программное обеспечение, собственной разработки, обеспечивает формирование графиков нагрева/оохлаждения, каждый из которых содержит последовательность независимых сегментов, определяемых тремя параметрами: приращение мощности на длине сегмента отрезка времени и ограничение мохности на сегменте. Сохранение этих программы в электронной памяти промышленного компьютера. Программное обеспечение реализует возможность "горячей" переключаться с одной программы на другую.
- Контроль и мониторинг происходящих процессов внутри печи, контролируется пользователем на всех этапах процесса роста кристалла
- Реализована возможность контролировать положение механических частей установки, реализована способность системного программирования мощности нагревателя
- Оборудование поставляется с предустановленным программным обеспечением на условиях бессрочной коммерческой лицензии
- "Горячее" переключение между автоматическим и ручным типами управления
- Программное обеспечение контроля и мониторинга роста кристаллов сохраняет все существующие запрограммированные параметры процесса роста в энергонезависимой памяти.
- Программное сохраненяет всех действий оператора в системе и предоставляет оператору исчерпывающую информацию о текушщем состоянии
Спецификация:
Вес получаемых кристаллов 30 - 150 кг
Высокая автоматизация процесса
Специальное программное обеспечение
Резистивный нагрев
Рабочая атмосфера: вакуум
Степень вакуумя, мм.рт.ст.: 2*10-6
Необходимая площадь, кв. м : 9
Масса, кг: 2300
Потребляемая мощность, кВт: 40-100
Стадии процесса:
- загрузка тигля;
- получение вакуума внутри камеры 6x10-5 мм.рт.ст;
- нагрев исходного сырья до 2100 Цельсия до плавления
- затравление
- снижение мощности, по заранее заданному графику
Основное применение кристаллов сапфира:
- Подложки для светодиодов (LED)
- Экраны смартфонов
- Детали для смартфон камер
- Оптические изделия в виде линз, призм различных форм и применений
- Линзы для фото и видео техники
- Защитные оптические экраны
- Применение в часовой промышленности
- Экраны и корпуса умных часов, типа «iWatch»
- Бронированные защитные сапфировые стекла, окна для военной техники и специальных устройств
- Сапфировые пластины как баллистические элементы брони для транспортных средств
- Защитные смотровые окна
- Эндопротезы
- Защитные экраны, сферы, полусферы, купола